1987년 설립된 (주)에프에스티는 반도체 제조공정에 사용되는 포토마스크 보호용 막인 Pellicle을 생산하고 있습니다. 1994년 Deep UV Pellicle을 성공적으로 개발해 벤처기업대상을 수상하였습니다.
일본과 대만을 비롯해 세계시장에서 점차 커다란 명성을 얻고 있는 우리의 Pellicle은 ISO9001을 획득하였고, 한국 Pellicle시장의 약 80%를 점유하고 있습니다.(주)에프에스티 기술연구소는 1998년 Thermoeletric Chiller를 개발해 이를 세계시장의 요구에 부응코저 2000년 1월 유럽의 CE마크를 획득하였습니다.Thermoeletric Chiller는 높은 기술력과 뛰어난 품질을 인정받아 세계의 유수한 반도체 제조업체에 공급하고 있습니다.
기업형태
중견기업(300명이상)
고용형태
정규직
근무지
경기
최종학력
대학교(4년)
모집기간
채용시 마감
등록일
2023-12-19
학력
경력
연령
성별
채용인원
우대조건
대학교(4년)
무관
무관
무관
0명
영어 (등급:상)
모집정보
채용분야
직종 선택 없음
고용형태
정규직
업무내용/자격요건
▶ 직무개요
- 카메라를 활용한 영상취득 Software 개발
(User Interface, Algorithm 개발)
- Digital Image Processing & 신호처리 개발
* 기가 단위 이미지내 Micro 단위 Defect 수초 이내 검출
* 반도체 마스크 패턴 검사기 개발
* 3D 비전 검사 알고리즘 & Data 처리 개발
근무지
경기
경력
무관
모집기간
채용시 마감
지원자격정보
모집인원
0명
최종학력
대학교(4년)
연령
무관
연봉
면접시 협의
외국어 우대
영어 (등급:상)
상세자격조건
▶학력 : 학사 이상
▶전공 : 제어공학, 컴퓨터공학, 전기전자, 수학 등 이공계
▶경력 : 사원 ~ 과장
▶우대사항
- 머신비전에 대한 다양한 설비 경험(웨이퍼, 펠리클, 마스크,
글라스, PCB, 솔라셀 등)
- 반도체 검사설비 기구/제어/광학 개발 및 이해
- 영상처리 알고리즘 개발에 대한 수학적 설명 가능
- 활용 Tool : C# (주), C/C++, WPF, MFC (부)