´ã´ç¾÷¹« ¤ýSilicon wafer, Raw material¿¡ ´ëÇÑ ÃøÁ¤ ¹× ºÐ¼®/Æò°¡, data Çؼ® ¤ýMetrology À¯Áö °ü¸® ¹× °³¼±, °³¹ß ¤ýÁ¦Á¶ ¹× ´ë¿Ü Áö¿ø (Ç°Áú) Çʼö ÀÚ°Ý¿ä°Ç ¤ý'22³â 8¿ù ÀÌÈÄ ÀÔ»ç °¡´ÉÀÚ (Çлç ÀÌ»ó) ¤ý°øÇÐ ¹× ÀÌÇÐ °è¿ (±Ý¼Ó/Àç·á/ÀüÀÚ/¹°¸®/ÈÇÐ) ¿ì´ë Çʿ俪·® ¤ýMetrology ¿î¿ë ´É·Â ¹× ºÐ¼® ±â¼ú - °áÁ¤, Ç¥¸é(defect), ¿À¿°(metal, organic, ion) ºÐ¼®/Æò°¡ ¤ýºÐ¼® Data Çؼ® ¹× ÀÀ¿ë ¤ýMSA(ÃøÁ¤½Ã½ºÅۺм®) ½Å·Ú¼º ±â¹ý ¿ì´ë»çÇ× ¤ýSemiconductor ¼ÒÀç °ü·Ã ºÐ¼® ¹× Àåºñ ¿î¿µ °æÇèÀÚ (SRP, Res. tester, FT-IR, SPV, u-PCD, ICP-MS, Ion Chromatography, Furnace ¿Ü) ¤ýºÐ¼® ¹× Æò°¡, Data Çؼ®, Àåºñ °ü¸® °æÇèÀÚ |